光刻機(jī)根據(jù)光源波長和投射方式可分為：近紫外光光刻機(jī)：分辨率 50-200nm，適用于低端半導(dǎo)體器件。深紫外光光刻機(jī)：分辨率 32-100nm，用于生產(chǎn)中高端半導(dǎo)體器件。極紫外光光刻機(jī)：分辨率 14nm 及以下，適用于高端半導(dǎo)體器件。電子束光刻機(jī)：分辨率 10nm 及以下，用于掩模板制造和研究領(lǐng)域。

光刻機(jī)的分類及特點(diǎn)

光刻機(jī)是微電子制造中的關(guān)鍵設(shè)備，用于將電路圖樣從掩模版轉(zhuǎn)移到硅片上。根據(jù)光源波長和投射方式的不同，光刻機(jī)可分為以下幾類：

1. 近紫外光 (NUV) 光刻機(jī)

• 特點(diǎn)：

  • 使用波長為 248nm 至 365nm 近紫外光
  • 分辨率：50nm 至 200nm
  • 適合于制備低端半導(dǎo)體器件

2. 深紫外光 (DUV) 光刻機(jī)

• 特點(diǎn)：

  • 使用波長為 157nm 深紫外光
  • 分辨率：32nm 至 100nm
  • 可用于生產(chǎn)中高端半導(dǎo)體器件，如 DRAM 和 NAND 閃存

3. 極紫外光 (EUV) 光刻機(jī)

• 特點(diǎn)：

  • 使用波長為 13.5nm 極紫外光
  • 分辨率：14nm 及以下
  • 可用于生產(chǎn)高端半導(dǎo)體器件，如邏輯芯片和處理器

4. 電子束光刻機(jī)

• 特點(diǎn)：

  • 使用電子束作為光源
  • 分辨率：10nm 及以下
  • 主要用于掩模板制造和研究領(lǐng)域

不同類型的光刻機(jī)具有不同的特點(diǎn)，適合于生產(chǎn)不同級別的半導(dǎo)體器件。NUV 光刻機(jī)技術(shù)成熟，成本較低，但分辨率有限。DUV 光刻機(jī)分辨率更高，但成本也更高。EUV 光刻機(jī)具有最高的精度和分辨率，但其技術(shù)復(fù)雜，成本極高。而電子束光刻機(jī)則具有最高的精度，但產(chǎn)能低，主要用于掩模板制造和研究。